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當前位置:首頁   >  產(chǎn)品中心  >  掩膜曝光光刻機  >  Mask Aligner系列  >  MPEM-1600掩膜曝光光刻機Mask Aligner

掩膜曝光光刻機Mask Aligner

簡要描述:MYCRO*荷蘭光刻機(掩膜曝光光刻機Mask Aligner ),是的光刻系統(tǒng),為半導體制造和科研領域提供品質優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng),廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域。

  • 產(chǎn)品型號:MPEM-1600
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2024-05-17
  • 訪  問  量:2937

詳細介紹

一、掩膜曝光光刻機Mask Aligner產(chǎn)品簡介:

光刻機分為半自動和全自動兩大系列。MPEM系列是高精度的雙向掩模對準器,在晶片的頂側和底側包括對準光學系統(tǒng),因此可以與頂側對準對頂側表面進行接觸,軟接觸和接近圖案化。晶片底面上的圖形。掩模和晶圓的準確對準可能是通過高分辨率光學系統(tǒng)實現(xiàn)的,該光學系統(tǒng)的頂部和底部均安裝了對稱排列的10X物鏡。由于可以調成對的物鏡之間的間隔,所以不規(guī)則形成的晶片也可以自由地對準。

 

MPEM-1600

MPEM-12M

MPEM-16M

光罩尺寸

多5英寸

多7英寸

多9英寸

晶圓尺寸

高達4英寸(無定形)

高達6英寸(無定形)

高達8英寸(無定形)

面罩架滑動

手動卡盤

面具運動

X =±3毫米,Y =±3毫米

接觸

方法

軟接觸/硬接觸/接近暴露

 

 

照明

250W超高壓蒸氣汞燈

500W超高壓蒸氣汞燈

照明不規(guī)則

±5%

有效接觸面積

直徑100毫米

直徑150毫米

直徑200毫米

解析度

3mµ L / S

對準

方法

目鏡觀察(精神領域系統(tǒng))

9英寸視頻

監(jiān)控系統(tǒng)

物鏡

10X兩對(上/下)

目鏡

NWF 10X(一對)

--

總放大倍率

100倍

200倍

物鏡分離

15?90毫米

80?140毫米

55?184毫米

聚焦單元

手冊

對準范圍

X,Y =±4mmθ
=±22.5°

X,Y =±4mmθ
=±5°

對齊間隙

09?99微米

對準精度

小于±5mm

實用工具

主機電源

100-220V AC,50 / 60Hz,15A(600W)

水銀燈電源

100-220V AC,50 / 60Hz,15A(550W)

100-220V,50 / 60Hz,15A(1,100W)

氮氣

0.4?0.5兆帕

100-220V AC,50 / 60Hz,15A(1,100W)

真空壓力

小于21.3kPa
(從大氣壓到-80kPa )

尺寸(主機)

750( 寬)x
820(深)x
1,700(高)mm

940( 寬)x
860(
深)x 1,670(高)mm

1,200( 寬)x
1,090(深)x
1,800(高)mm

凈重

大約 450公斤

大約 550公斤

大約 700公斤

選件

NWF 15X目鏡(一對)
9英寸電視監(jiān)視器系統(tǒng)(黑白)

--
 

 

MPEM-1600

MPEM-12M

MPEM-16M

(適用
于直徑大為4英寸的晶片)

(適用
于直徑大為6英寸的晶片)

(適用
于直徑大為8英寸的晶片)

                        

*除上述以外,還提供電動MPEM-2000 / 4000型和全自動MPEM-8M / 12M型。

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