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WS1000濕法刻蝕機(jī)應(yīng)用廣泛

更新時(shí)間：2016-06-27      點(diǎn)擊次數(shù)：2390
 　　WS1000濕法刻蝕機(jī)的應(yīng)用非常廣泛，下面來(lái)看下它應(yīng)用在哪些方面：
　　
　　WS1000濕法刻蝕機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域
　　1、半導(dǎo)體元件、印刷線路板的清洗。
　　2、高分子材料表面修飾
　　3、生物芯片、微流控芯片的清洗
　　4、芯片、電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片等的清洗
　　5、各種形狀的人工晶體、ATR元件、天然晶體和寶石的清洗。
　　6、光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片的清洗。
　　7、各種陶瓷、金屬基片上的殘留凝膠等雜質(zhì)的清洗。
　　8、各種醫(yī)療器材和儀器的清洗。
　　9、增加復(fù)合材料、生物分子材料表面的結(jié)合力。
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